上海新阳 光刻机
2018年3月，上海新阳和上海逸纳共同出资设立芯刻微，从事193nm干法高端光刻胶产品的研究与产业化工作，但双方于次年5月终止合作；同年12月，公司以自有资金投资江苏博砚电子科技有限公司，持有博砚电子公司10%的股权，后者主要从事平板显示产业用相关光刻胶产品的开发、生产。2019年10月，上海新阳启动合肥第二生产基地项目的建设。合肥基地占地115亩，总投资约6亿元。按照部署，一期计划投资3亿元，占地50亩，达产后形成年产15000吨超纯化学材料产品的生产能力。根据公司在定增公告中所说，此次定增拟将部分资金投资于该项目。
进入2020年，上海新阳在该项目上的投入越发激进。8月，公司公告拟定增募资不超15亿元，其中7.32亿元用于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目。主要开发ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3D NAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产品，力争于2023年前实现上述产品的产业化。
11月，公司再次公告拟向特定对象发行股票募集资金总额不超过14.5亿元，其中8.15亿元再投上述项目。若项目按计划进度进行，预计KrF厚膜光刻胶2021年开始实现少量销售，2022年可实现量产，预计ArF（干式）光刻胶项目在2022年可实现少量销售，2023年开始量产，预计当年各项产品销售收入合计可达近2亿元。
东吴证券分析师柴沁虎去年3月16日报告曾指出，上海新阳一直致力于进行半导体用光刻胶的产业化，虽然中间走过一段弯路，但参股博砚电子后，可以有效借鉴博砚电子的成功经验。同时，公司和博砚电子也有一定程度的产业协同，认为公司是国内最有可能率先在集成电路制造用高端光刻胶取得实质性突破的企业。
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