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芯片制造离不开半导体制造设备，其中光刻机是最核心的设备。因为光刻成本约占芯片制造整体的三分之一，耗时约占整体的50%，并且决定着芯片制程的先进程度。关键是光刻机制造技术非常复杂，目前基本被荷兰光刻机巨头ASML垄断。不过，由于美方的干涉，ASML出货受到限制。近日，中企正式宣布， ASML果然加速了！
除ASML外，全球还有3家能够生产光刻机，分别是日本的尼康和佳能、我国的上海微电子。这里所说的光刻机是指前道光刻机，也就是专门用于芯片制造的光刻机。 我国的上海微电子虽然也能够生产，但目前只突破到了90nm，而目前市场需求最大的成熟制程芯片是28nm。不过也不必气馁，上海微电子如今正在攻坚28nm光刻机。 另外，上海微电子的封测光刻机很厉害，国内市场份额占到80%，全球占到40%。
因此，我国的晶圆制造厂商所用的光刻机主要依赖进口。现在最先进的是高端EUV光刻机，只有ASML一家能够生产，不过因为美方阻挠，中芯国际订购也不能到货。 如今，ASML主要造DUV等光刻机来拓展大陆市场。这个层面还有日本厂商，尼康也能出货DUV光刻机，佳能侧重于低端光刻机，为了争得市场，他们价位相对较低。 于是，尼康和佳能大陆也有一定市场，今年2月尼康还中标1台ArFi浸没式光刻机。
然而，日本为了配合美方芯片限制，近日宣布将实施出口管制，限制23种先进芯片制造设备，其中就涉及光刻设备，并且标准还很严格，光刻机限制已经上探到45nm。 因为ArFi浸没式光刻机的制程范围为45-7nm，日本响应美方要求，限制14nm及以下先进制造设备，而日本直接规定涉及这个范围的设备，都算是出口管制的行列。 这就会直接影响尼康的光刻机出货，至于会不会影响之前中标的那台，就不好说了。
日本的这个标准甚至比荷兰方面更严格，荷兰虽然在三方协议中，也表示将于今年夏季实施出口管制，但已默认ASML对限制的解释，就是并不针对所有浸没式DUV。 荷兰提出对最先进的光刻和沉积设备进行出口管制后，ASML率先对“最先进”进行了定义，认定为2000i及后续推出的浸润式光刻系统，1980Di这款型号依然可出货。 而1980Di分辨率为大于等于38nm，大多用于14nm及以上工艺，最高可支持7nm。
不仅如此，随后荷兰外贸与发展合作大臣对外表示，仍有很大一部分较旧型号的DUV被允许销往中国，这些机器仍是主力军，需要用它们来制造世界目前急需的芯片。 ASML也公开表示，今年将向中国客户出货更多的光刻机。随着芯片形势下行，台积电等晶圆厂纷纷减缓扩产，推迟设备订单，ASML迅速将更多光刻机产能分配给中企。 近日，国内公布了近期半导体制造设备招标情况，ASML新增中标6台光刻机设备。
招标企业为我国上海积塔半导体，之前尼康中标的浸没式光刻机就是该公司。这次选择了ASML，不再选择日企，不排除受到日本出口管制影响，也算是无声的反抗。 ASML中标的6台光刻机，其中4台为KrF扫描式光刻机，2台为ArF扫描式光刻机。 由此可见，ASML已经付诸于行动，开始加速向中企出货更多光刻机。毕竟大陆的光刻机需求潜力非常大，即使各地纷纷暂缓扩产，大陆很多晶圆厂依然加速推进扩建。
在美方极力拉拢日荷两方达成三方协议，对我们芯片发展形成围堵的关键时刻，ASML反而向中国出货比去年更多的光刻机，总裁还时隔6年再次访华，充分说明问题。 这从全球科技巨头纷纷访华也能看出，中国市场潜力巨大，中国前进步伐不可阻挠，芯片行业也不例外，ASML当然不会错过机会。对此外媒表示：ASML果然加速了！ 即使如此，我们也不能放慢自研的步伐，只有突破国产光刻机，才能彻底解决问题。
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发表于 2023-6-10 16:17
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