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Blackwell芯片已投产,铜缆高速连接器放量在即(利好)
[color=var(--brandPrimary)]一、事件
6月2日,英伟达创始人兼CEO黄仁勋宣布,英伟达Blackwell芯片现已开始投产。演讲中,黄仁勋宣布,英伟达将在2025年推出Blackwell Ultra AI芯片。下一代AI平台名称为Rubin,该平台将采用HBM4内存。Rubin下一代平台正在开发之中,将于2026年发布,Rubin AI平台将采用HBM4记忆芯片。
[color=var(--brandPrimary)]二、简介
这款双芯片设计,拥有2080亿个晶体管,AI性能达每秒2亿亿次,堪称目前世界上最强大的芯片,是英伟达在AI计算领域的一次重大突破。所有的晶体管几乎同时访问与芯片连接的内存,为了处理大规模数据中心与GPU交互问题,也需要更强的连接能力。 GB200超级芯片在互联中GPU与NVSwitch采取高速铜缆互联(需要高速背板连接器),并内置5000根NVLink铜缆(合计长度超2英里),Blackwell与Hopper相比训练耗电量仅为其1/4,生成Token的成本也会随之降低。 铜缆连接器又称为“高速连接器”、“高速铜连接”,可通过铜线直接传输电信号。与普通铜缆相比,具有以下优势:降本显著,成本仅为光模块1/5;传输速率提升,短途因无损传输速率更高;能耗低,减少能源消耗和热产生,大幅削减运营及冷却能源开支;可替代性,在短距传输领域可替代光模块和AOC。
[color=var(--brandPrimary)]三、展望
GB200系列作为英伟达新一代的服务器级GPU芯片,其性能和效率的提升将对整个关联市场产生重大影响。尤其是其采用铜连接方案,可能会改变GPU集群的内部连接方式,降低成本并提高性能,这使得铜连接方案的市场前景值得期待。英伟达计划大规模部署DAC技术,据LightCounting报道预计从2024年到2028年,DAC高速铜缆的年复合增长率将攀升至25%。
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